«Микрон» тестирует первый российский фоторезист 90 нм

Резидент ОЭЗ «Технополис Москва» завод «Микрон» тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу. Его внедрение обеспечит предприятию независимость от зарубежных аналогов. В среднесрочной перспективе завод «Микрон» планирует полностью перейти на российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов. Первый отечественный фоторезист был разработан компанией НИИМЭ, которая также имеет статус резидента ОЭЗ столицы. Об этом сообщил заместитель Мэра Москвы по вопросам транспорта и промышленности Максим Ликсутов.

Более 60 столичных предприятий работают в сфере микроэлектроники и фотоники, из них около 40 являются резидентами ОЭЗ «Технополис Москва». Предприятия активно занимаются замещением зарубежной продукции, выпуская микросхемы, оптико-электронные приборы, смарт-карты, RFID-продукцию и другие высокотехнологичные изделия. Масштабная поддержка города позволяет им вкладывать серьезные средства в новые разработки и производственные мощности.

– За время деятельности ОЭЗ Москвы, которая предоставляет резидентам широкий пакет налоговых льгот, производители микроэлектроники инвестировали в свое развитие свыше 75 млрд рублей. Это позволило им выпустить высокотехнологичной продукции на более чем 174 млрд рублей. Многие предприятия активно внедряют в производство отечественную электронную компонентную базу нового технического уровня, что во многом определит будущее отрасли. Так, резидент ОЭЗ столицы, являющийся одним из ведущих производителей микроэлектроники страны, успешно тестирует первый отечественный фоторезист для фотолитографических процессов с нормами 90 нм. Это станет настоящим прорывом для отрасли, – отметил Максим Ликсутов.

Фоторезист, созданный на основе полимера, является одним из ключевых элементов в производстве микросхем с помощью фотолитографии. Этот светочувствительный материал наносится на кремниевую подложку, которая облучается с помощью фотолитографа через специальный шаблон. После многократного облучения на пластине создается рельефный «рисунок» микросхемы. Так как в России собственное фотолитографическое оборудование только начинает создаваться, то производство фоторезистов практически не было налажено. «Сегодня резидент ОЭЗ Москвы завод «Микрон» является единственным в России производителем микросхем с топологией 180-90 нанометров. Его чипы используются в банковских картах НСПК «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте «Тройка», школьной карте «Москвёнок». Предприятие обладает около 80 действующими патентами и свидетельствами по ключевым продуктам, прошедшим государственную регистрацию. Мощная научная база позволяет резиденту активно замещать импортную компонентную базу и материалы – на сегодня им успешно внедрены в производство 16 сверхчистых химических материалов и 25 специальных электронных газов отечественного производства и еще 23 элемента находятся на стадии разработки», – уточнил Министр Правительства Москвы, руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики Анатолий Гарбузов.

Отечественный фоторезист для техпроцессов 90 нм был разработан другим резидентом ОЭЗ Москвы – НИИ Молекулярной электроники при поддержке Минпромторга России. Как пояснил генеральный директор «НИИМЭ» Александр Кравцов, кооперация отечественных научных центров и отраслевых предприятий во главе с НИИМЭ успешно разработала, провела тестирование и апробацию первого полностью российского фоторезиста для технологии 90 нм. Материал обладает всеми необходимыми свойствами, чтобы успешно конкурировать с зарубежными аналогами. Предприятием уже разработано семь специальных материалов, еще 10 находятся в разработке и ведется постановка трех работ.

– Деятельность по импортозамещению материалов для микроэлектроники необходимо вести в кооперации с научными учреждениями – тогда исследования сразу переходят в производство. Отечественный фоторезист для техпроцесса 90 нм – это важная веха, как для завода «Микрон», который ведет беспрецедентную в мировой практике замену материалов на действующем производстве, так и для всей отрасли», – подчеркнула генеральный директор предприятия «Микрон» Гульнара Хасьянова.

В ОЭЗ «Технополис Москва» также разработан первый отечественный фотолитограф для техпроцесса 350 нм.

– Создание передовых разработок стало возможным, в том числе благодаря мерам поддержки, которые оказывает особая экономическая зона Москвы. Так за время своей деятельности резиденты ОЭЗ столицы сэкономили на налогах свыше 14,8 млрд рублей. При этом они вложили в развитие своих производств 215 млрд рублей инвестиций, – подчеркнул генеральный директор ОЭЗ «Технополис Москва» Геннадий Дегтев.