Договор о создании на заводе «Микрон» производства микросхем

09.10.2009 > Новости науки и промышленности

9 октября 2009 г. генеральный директор ГК РОСНАНО Анатолий ЧУБАЙС и Председатель Совета директоров АФК «Система» Владимир ЕВТУШЕНКОВ подписали инвестиционный договор по созданию на заводе «Микрон» серийного производства интегральных схем на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм. Подписание документа состоялось во время визита на предприятие Председателя Правительства РФ Владимира ПУТИНА.

Подписание инвестиционного соглашения дает старт проекту, который призван вывести отечественную микроэлектронную промышленность на новый уровень развития. Проект будет реализован на производственной базе с использованием инфраструктуры завода «Микрон» (входит в состав ОАО «СИТРОНИКС», крупнейшим акционером которого является АФК «Система»). Технологическим партнером совместного проекта выступит лидер европейской полупроводниковой промышленности — компания STMicroelectronics. Развитие проекта позволит создать технологическую систему, включающую в себя дизайн-центры, научно-исследовательские организации, компании, занимающиеся материаловедением микроэлектроники.

Продукция, которая будет выпускаться на новом производстве «Микрона», нацелена на такие развивающиеся массовые рынки, как цифровое телевидение, ГЛОНАСС/GPS навигация, системы автоматизации производства, автомобильная электроника и смарт-карты с высокой степенью защиты.

Инвестиции в проект осуществляются в форме взносов в уставный капитал создаваемого совместного предприятия, соучредителями которого на паритетных началах выступят ГК РОСНАНО и ОАО «НИИМЭ и Микрон». Общий объем финансирования проекта составит 16,5 млрд рублей. В соответствии с соглашением, объем инвестиций ГК РОСНАНО составит 6,5 млрд руб. «СИТРОНИКС» вложит в проект равную долю в виде высокотехнологичного оборудования основного исполнителя проекта — завода «Микрон». В долгосрочной перспективе проект предусматривает также привлечение заемного финансирования.

«Этот проект имеет стратегическое значение, - отметил генеральный директор ГК РОСНАНО Анатолий Чубайс. - Формирование отечественного наноэлектронного производства в России играет важную роль в обеспечении технологической безопасности страны и развитии всего высокотехнологичного сектора экономики».

«С каждым следующим поколением производственной технологии растет производительность и снижается энергопотребление чипа. Внедрение технологии 90 нм позволит нам выйти на новые рынки, сохранив при этом рыночные позиции по продукции с технологической нормой 180 нм», - отметил генеральный директор ОАО «НИИМЭ и «Микрон» Геннадий КРАСНИКОВ.